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紫外光刻機(jī)是制造集成電路中重要的設(shè)備，特別是現(xiàn)在市面上大部分的芯片都是屬于電子芯片，當(dāng)電子芯片的工藝小于一定的尺寸的時(shí)候，就必須依靠光刻機(jī)在制作芯片，也就是說(shuō)如果沒(méi)有光刻機(jī)就沒(méi)有辦法制造出頂級(jí)的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可...

紫外光刻機(jī)新一代紫外光源：172nm，具有同類(lèi)產(chǎn)品良好的輸出強(qiáng)度，3%的可用孔徑，弧光燈使用壽命更長(zhǎng)。暴露高達(dá)30000次，瞬間啟動(dòng)，無(wú)需超凈室，內(nèi)置凈化系統(tǒng)可使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無(wú)需主動(dòng)冷卻和外部冷卻，無(wú)有毒氣體和汞等物質(zhì)。高光能轉(zhuǎn)換...

光刻是使用曝光將設(shè)計(jì)的掩模圖案轉(zhuǎn)移到基板的過(guò)程，URE-2000/35型紫外光刻機(jī)是專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機(jī)提供良好的基板適應(yīng)性，可夾持的標(biāo)準(zhǔn)尺寸基板最大直徑為150mm。該設(shè)備提供多種曝光方式，包括真空、...

等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)也叫等離子表面處理儀，是一種新的技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分...

雙通道超高頻鎖相放大器信號(hào)頻率響應(yīng)范圍擴(kuò)展至50MHz，并具有兩個(gè)鎖相單元。它可以代替測(cè)量系統(tǒng)中的兩個(gè)常規(guī)鎖相放大器。128位信號(hào)處理能力使鎖相放大器達(dá)到理想的性能。它不僅可以支持各種現(xiàn)有應(yīng)用程序，還可以促進(jìn)許多新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)。同時(shí)集成頻...

薄膜的厚度是否均勻是檢驗(yàn)薄膜性能的依據(jù)。顯然，如果一批單層薄膜的厚度不均勻，不僅會(huì)影響薄膜的抗拉強(qiáng)度和阻隔性能，還會(huì)影響薄膜的后續(xù)加工。此外，合理控制產(chǎn)品厚度，不僅可以提高產(chǎn)品質(zhì)量，還可以降低材料消耗，提高生產(chǎn)效率。因此，薄膜厚度是否均勻，...